Peralatan Semprot Atomisasi Ultrasonik Untuk Lapisan Nanofilm

Peralatan Semprot Atomisasi Ultrasonik untuk Lapisan Nanofilm

 

1. Apa itu Penyemprotan Nanofilm?

Nanofilm adalah material lapisan-tipis dengan ketebalan dalam kisaran skala nano, biasanya digunakan untuk meningkatkan konduktivitas, sifat optik, keterbasahan permukaan, dan fungsi substrat lainnya. Metode preparasi film tipis-tradisional mencakup spin coat, dip coat, sputtering, dan deposisi lapisan atom. Penyemprotan atomisasi ultrasonik, melalui atomisasi dan pengendapan cairan, memberikan opsi untuk persiapan film tipis-berbasis larutan

2. Prinsip Kerja Peralatan Pelapisan Semprot Atomisasi Ultrasonik

Peralatan pelapisan semprotan atomisasi ultrasonik terutama terdiri dari generator ultrasonik, nosel atomisasi, sistem pasokan cairan, sistem gas pembawa, dan platform gerak. Proses kerja dasarnya adalah sebagai berikut:

1. Larutan nanomaterial atau larutan pelapis dikirim ke nosel atomisasi ultrasonik.

2. Getaran ultrasonik menyebabkan cairan membentuk tetesan halus.

3. Gas pembawa mengangkut tetesan ke permukaan substrat.

4. Tetesan tersebut menyebar, mengering, atau menjalani pasca-perawatan pada media.

5. Lapisan tipis dengan ketebalan target dibentuk melalui beberapa semprotan..

 

3. Keuntungan Penyemprotan Atomisasi Ultrasonik untuk Nanofilm

Atomisasi Seragam:Nosel atomisasi ultrasonik menghasilkan tetesan halus melalui-getaran frekuensi tinggi, yang membantu meningkatkan keseragaman pengendapan lapisan. Ukuran tetesan, jarak penyemprotan, kecepatan suplai cairan, dan kondisi substrat semuanya mempengaruhi kualitas film akhir.

Kontrol Ketebalan Film yang Tepat:Ketebalan film dapat dikontrol secara tepat dengan mengatur jumlah semprotan, kecepatan suplai cairan, kecepatan pergerakan nosel, dan konsentrasi larutan.

Peningkatan Pemanfaatan Material:Penyemprotan ultrasonik biasanya menggunakan atomisasi{0}}kecepatan rendah dan metode penyemprotan yang lebih lembut, sehingga mengurangi percikan dan penyemprotan berlebihan, sehingga membantu mengurangi limbah material. Pemanfaatan material sebenarnya masih bergantung pada sistem penyemprotan, ukuran substrat, sifat larutan, dan metode pemulihan.

Cocok untuk-Persiapan Film Area Besar:Penyemprotan atomisasi ultrasonik dapat dikombinasikan dengan platform gerak otomatis untuk mencapai{0}}lapisan area yang luas pada substrat planar.

4. Aplikasi Penyemprotan Atomisasi Ultrasonik untuk Nanofilm

Film Konduktif Transparan:Penyemprotan ultrasonik dapat digunakan untuk mempelajari film polimer konduktif seperti PEDOT:PSS, dan cocok untuk pengembangan lapisan konduktif transparan dan bahan elektronik organik.

Bahan Semikonduktor dan Elektronik:Dapat digunakan untuk penelitian pelapisan fungsional pada permukaan wafer silikon, pelapisan photoresist, dan film tipis elektronik organik.

Film Fungsional Optik:Bahan seperti nano-silika dapat digunakan untuk menyiapkan film berwarna struktural dan pelapis fungsional optik lainnya.

Lapisan Hidrofilik dan Hidrofobik:Penyemprotan ultrasonik dapat digunakan untuk menyiapkan film fungsional permukaan hidrofilik, hidrofobik, dan lainnya; sifat spesifiknya bergantung pada bahan pelapis dan proses perawatan permukaan.

Bahan Energi Baru:Ini dapat digunakan untuk penelitian dan pemrosesan lapisan fungsional dalam-sel surya film tipis dan pelapis material energi baru lainnya.

5. RPS-Peralatan Pelapis Atomisasi Ultrasonik SONIC

RPS-Peralatan pelapis atomisasi ultrasonik SONIC cocok untuk aplikasi seperti pelapis material nano, film tipis fungsional, material elektronik, dan pelapis permukaan presisi. Peralatan dapat disesuaikan sesuai dengan karakteristik material pelanggan, ukuran substrat, area pelapisan, dan persyaratan produksi.

Atomisasi Ultrasonik-Presisi Tinggi: Memanfaatkan-teknologi atomisasi ultrasonik frekuensi tinggi untuk membantu mencapai penyemprotan tetesan yang stabil dan seragam.

Lapisan Film Tipis Seragam:Cocok untuk persiapan film tipis yang seragam melalui kontrol parameter proses seperti pasokan cairan, kecepatan penyemprotan, dan waktu penyemprotan.

Solusi Pelapisan Khusus:Solusi pelapisan ultrasonik yang sesuai dapat dirancang sesuai dengan karakteristik material pelanggan, ukuran substrat, area pelapisan, dan persyaratan produksi.